光刻扫描物镜|宠物出国_宠物大百科共计6篇文章
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1.$奥普光电(SZ002338)$物镜是投影光刻机的核心部件,也是难度最大的...$奥普光电(SZ002338)$物镜是投影光刻机的核心部件,也是难度最大的分系统和整机成败的关键。按照瑞利公式,以193nm(ARF)光刻机为例,曝光波长采用远紫外的193nm(ARF),K1取0.39,光刻物镜数值孔径必须是NA≥0.75,而且为了保证生产率,物镜视场又必须较大(22mm×22mm,结合掩模硅片同步扫描技术,实现26mm×33mm),光刻物...https://xueqiu.com/4299879533/152203517
2.全自动数字玻片扫描仪DS长恒荣创显微镜>全自动玻片扫描仪>全自动数字玻片扫描仪 DS-20 真实40倍物镜 高速扫描 无人值守 国产 产品名称:全自动数字玻片扫描仪 DS-20 真实40倍物镜 高速扫描 无人值守 国产 产品类型:全自动玻片扫描仪 产品型号:DS-20 发布时间:2024-09-14 http://www.crisoptical.com/p/284.html
3.投影物镜光学系统及光刻机.pdf步进 扫描投影光刻机是用于光刻工艺的重要设备,其中投影物镜光学系统是光刻机的重要分系 统之一。 [0003] 目前在半导体领域,微米级分辨率、高产率的投影物镜光学系统需求日益增加。该 类光刻设备需具备成本低、视场大、成像范围大及加工容易等特点,因此对设计成本、加工 制造难度和装调复杂性提出更高的要求。同时...https://max.book118.com/html/2023/1129/7116144146006012.shtm
4.温故知新,当光刻机再次闪耀,你是否记得我们一直拥有他光刻机双工作台由两个工件台组成,两个工件台同时独立工作,负责完成步进运动、曝光扫描、对准扫描、上下硅片等功能。 双工作台工作流程:工作台分为1号和2号,1)2号工件台处于物镜下方,对晶圆进行调平调焦、曝光、刻片等操作,与此同时1号台进行待刻晶圆的上片下片;2)当2号台刻片完成,工件台系统进行换台,1号...http://ntgpc.upchina.com/viewpoint/detail.html?id=18623
5.茂莱光学(688502.SH):为光刻机光学系统提供用于匀光中继照明模块的光...格隆汇9月25日丨茂莱光学(218.000,-1.00,-0.46%)(688502.SH)在投资者互动平台表示,公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜,以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件,是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。公司基于核心技术生产的大口径光刻机曝光物镜用光学器件突破常规透镜尺寸和...https://finance.sina.com.cn/stock/bxjj/2024-09-25/doc-incqkhfn5112657.shtml
6.SSA600/20步进扫描光刻机SSA600/20SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备。此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨...https://www.huanxiyl.com/sh_product.php?id=24985
7.0.1μm线宽主流光刻设备193nm(ArF)准分子激光光刻文章对于193nm的波长,光刻物镜要实现这样大的数值孔径和曝光面积,一次成像分步曝光基本没有可能,即使可能其高昂的代价(成本、技术难度)也是无法忍受的,所以必须采用一维甚至二维硅片—掩模同步扫描技术。同时要实现工艺系数k1小于0.4,必须采用相移掩模、离轴照明等分辨力增强技术。 光刻物镜和同轴对准系统必须采用集成化设计,...http://tech.newmaker.com/art_11740.html
8.物镜棱镜,Prism,objective.,在线英语词典,英文翻译,专业英语在设计点扫描激光共焦显微镜测量系统时 ,物镜参数的选择是至关重要的 ,因为它的数值孔径大小直接影响着系统的测量精度。 2. Moreover a devise idea is put forward that hologram incorporatesobject lensthat can adapt to the Panasoni. 后半部分对DVD的核心部分——激光头的工作原理及其满足高密度和兼容性要求的...http://www.dictall.com/indu/405/4048436D371.htm
9.现代光学镜头设计方法与实例畅想中心数据平台2.2 激光扫描物镜设计 2.2.1 自行构造评价函数优化设计激光扫描物镜 2.2.2 利用ZEMAX程序提供的默认评价函数优化设计激光扫描物镜 2.3 -5×显微物镜设计 2.3.1 依据初级像差理论求解初始结构 2.3.2 -5×显微物镜的优化设计例1 2.3.3 -5×显微物镜的优化设计例2 第3章 三片镜头设计实例 3.1 三片摄影物镜的优化...https://cxstar.com/Book/Detail?ruid=26bfecf5001076XXXX
1.光刻设备行业深度研究:半导体设备之巅,冰山峰顶待国产曙光为了满足更高的进度要求,1978 年,美国 GCA 公司推出了首台步进重复投影光刻 机。步进重复光刻机不需要实现掩模和圆片同步反向扫描,在结构上不需要扫描掩模 台和同步扫描控制系统,因而结构相对简单,成本相对较低,性能更加稳定。同时,由于其采用缩小倍率的物镜(4:1 或 5:1 或 10:1),降低了掩膜版的制作难度, 能...https://www.shangyexinzhi.com/article/7033089.html
2.中国工程院院士馆院士动态同时,极紫外光刻物镜的表面抛光精度需要在全频段达到原子量级,如图4所示[14],发展和采用原子层去除分辨率的新型抛光技术是实现极紫外光刻突破的主要途径。原子级去除的另一个主要技术就是原子层刻蚀(Atomic Layer Etching,ALE),是利用原子层沉积形成的自限制逐层反应结合传统的连续刻蚀工艺形成的具有原子级刻蚀精度的...https://ysg.ckcest.cn/ysgNews/1755951.html
3.显微镜(4)聚光器1.光镜的主要参数数值孔径(NA )是聚光镜的主要参数,最大数值孔径一般是1.2—1.4,数值孔径有一定的可变范围,通常刻在上方透镜边框上的数字是代表最大的数值孔径,通过调节下部可变光阑的开放程度,可得到此数字以下的各种不同的数值孔径,以适应不同物镜的需要。有的聚光镜由几组透镜组成,最上面的一组透镜可以卸掉或...https://wiki.antpedia.com/article-1468956-360
4.光电集成扫描电镜(SEM)技术解读一系列电磁透镜和光阑用于缩小电子源的直径,并将一束聚焦的小电子束照射到试样上。透镜系统由聚光透镜、物镜和扫描线圈组成。光镜中透镜的作用是将光的路径改变到所需的方向。玻璃或透明塑料可以弯曲光线,因此被用于光学透镜。电子不能穿过玻璃或塑料透镜。因此,它们不适合用于电镜。 https://www.eet-china.com/mp/a338363.html
5.MicroSpot?高功率聚焦物镜,用于可见光和近红外激光器聚焦物镜可用于各类需要强功率的应用中,比如激光切割或雕刻。在较低功率下,可用聚焦激光检测晶圆,或在光刻中激活特殊类型的光刻胶。由于本页的所有物镜视场有限,因此需要移动样品或物镜才能进行激光扫描。将这些物镜集成到系统中时,请注意,物镜上标出的放大倍率是假设物镜与焦距为200 mm的套筒透镜一起使用时的计算值...https://www.thorlabs.us/newgrouppage9.cfm?objectgroup_ID=4243
6.ASML公司光学光刻技术最新进展微细加工技术2002年03期领域: 无线电电子学; 关键词: ASML光刻机;投影光刻物镜;光学对准;照明系统;双平台扫描; 格式: PDF原版;EPUB自适应版(需下载客户端) 561158 开通会员更优惠,尊享更多权益 下载PDF版 手机阅读本文 微细加工技术 2002年03期立即查看 > 相似文献 期刊硕士博士会议报纸 暂无数据 图书推荐 光刻巨人:ASML崛起之路 人...https://wap.cnki.net/touch/web/Journal/Article/WXJS200203001.html
7.TESCAN热丝发射扫描电子显微镜VEGA3价格厂家物镜放大倍数1加工定制是 TESCAN热丝发射扫描电子显微镜-VEGA3 一、公司介绍 TESCAN总部坐落在捷克共和国布尔诺市,作为全球范围内的科学仪器制造商,TESCAN专注于于研究、开发、制造扫描电子显微镜及其相关附件和特殊产品,为建立在扫描电子显微镜以及针对不同应用的相关系统解决方案领域内的品牌做出不懈努力。 https://www.china.cn/xianweijing/4348097500.html