本发明涉及光刻扫描，具体涉及光刻扫描物镜。
背景技术：
1、光刻扫描物镜是一种用于微影技术的光学设备，主要用于半导体芯片制造、平板显示器制造、光学元件制造等领域。在光刻工作中，随着超精细打标已成为主流需求，在常规的非远心扫描系统中，因其像方主光线与焦平面之间有一定倾角，故所刻画的线条就会有一定倾斜，不满足线条均匀化的要求。随着光刻应用范围的进一步伸展，使其朝着大工作面的方向发展，在此背景下，使用大视场的扫描镜头就是主流方向之一。
2、但是目前193nm波段的大视场的光刻扫描的刻线均匀性以及效率问题还有待提高。
技术实现思路
1、本发明为了解决以往的193nm波段的大视场的光刻扫描的刻线均匀性以及效率问题，提供了一种大视场光刻扫描物镜。
2、所述大视场光刻扫描物镜包括光阑、第一透镜组和第二透镜组，从物侧至像侧方向上，光阑、第一透镜组和第二透镜组沿光的轴线方向依次排布；
3、所述第一透镜组包括：从物侧至像侧方向上依此分布排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜和第九透镜，其中，所述第一透镜为平凸透镜，所述第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜和第八透镜为弯月透镜，所述第七透镜和第九透镜为双凸透镜；
4、所述第二透镜组包括：从物侧至像侧方向上依此分布排列的第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜和第十五透镜，其中，所述第十透镜、第十一透镜、第十三透镜、第十四透镜和第十五透镜为弯月透镜，第十二透镜为双凸透镜。
5、本发明的有益效果为：
6、本发明的目的在于提供一种大视场光刻扫描镜头，其采用单一材料silica，各扫描视场波前差均小于0.5nm，各视场的像方远心度均小于0.023°，这可以有效地保持精密加工范围内的边缘加工区域成孔大小或切割缝宽于中心加工效果一致，较准确的控制刻线深度和保持均匀性，本光刻扫描镜头的视场达到140°，单次工作就可以完成大面积扫描，这能够有效的提高加工效率。该系统可以有效解决193nm波段的大视场的光刻扫描的刻线均匀性以及效率问题。
1.一种大视场光刻扫描物镜，其特征在于，所述大视场光刻扫描物镜包括光阑（0）、第一透镜组（01）和第二透镜组（02），从物侧至像侧方向上，光阑（0）、第一透镜组（01）和第二透镜组（02）沿光的轴线方向依次排布；
2.根据权利要求1所述的大视场光刻扫描物镜，其特征在于，在第一透镜组（01）中：
3.根据权利要求1所述的大视场光刻扫描物镜，其特征在于，在第二透镜组（02）中：
4.根据权利要求1所述的大视场光刻扫描物镜，其特征在于，在第一透镜组（01）中：
5.根据权利要求1所述的大视场光刻扫描物镜，其特征在于，在第二透镜组（02）中：
6.根据权利要求1所述的大视场光刻扫描物镜，其特征在于，所述第一透镜（1）与第二透镜（2）之间的厚度的取值范围为0.6 7.根据权利要求1所述的大视场光刻扫描物镜，其特征在于，所述大视场光刻扫描物镜的光路结构为像方远心结构。