新中国成立以来，我们国家在科技上取得了以前想都不敢想的成就。其中最有代表性的一项成就便是1964原子弹的成功爆炸，这使得我国成为为数不多的有核国家，也让我们的国际地位大大提高。
然而就有这么一项技术，全世界只有两个国家掌握，比原子弹还要稀有，就连我们国家都无法完全掌握它。这项技术就是高端光刻机。
光刻机是什么
想要明白光刻机为何这么难掌握，我们首先需要知道什么是光刻机？它有什么作用？光刻机别名又称掩模对准曝光机、光刻系统等，是一种用于制造电子芯片的精密仪器，是制作芯片过程中不可或缺的关键一环。
光刻机可以通过激光或电子束直接写在光掩模板上，然后用激光辐照光掩模板，晶圆上的光敏物质因感光而发生材料性质的改变，通过显影，便完成了芯片从设计版图到硅片的转移。
正因为如此，光刻工艺技术直接决定了像芯片这些半导体的尺寸，而芯片的尺寸又决定了手机、电脑等需要芯片这些产品的性能。在某种程度上可以说光刻机的发展直接决定了一个国家高端产业的发展。
知道了光刻机的重要性，也能明白为何华为等国产品牌为何始终害怕西方国家卡脖子，怕就怕在这个光刻机上。
因为手机想要获得更好的性能，就必须对所要采用的芯片提出更高要求。但是我们国家目前在光刻机研制上还存在不少需要攻克的技术难题，这就导致我们目前还不能研发出精度更高的芯片。结果就是这种核心部分我国企业都要依赖西方国家。
但它们也不是什么大善人，当华为的发展触犯到它们的利益时，它们就在技术上制裁华为，限制出口芯片到中国。
这就导致了华为不得不退而求其次，使用一些精度更低的手机芯片，导致性能下降。随之而来的也就是销量下降，利润下滑，也就不得不退出西方国家的市场。
光刻机为什么难以制造
既然光刻机这么重要，那么我们国家为什么不像当初研究原子弹时，拿出干劲和智慧，打破西方国家的卡脖子风险呢？
其实国家何尝没有在努力研制，然而光刻机，尤其是高端光刻机的制作技术难度太大，世界上只有荷兰和日本两个国家完全掌握了高端光刻机的制造。
不过，我国还是在光刻机研发上还是取得了不小的进展。实际上我们已经有了光刻机，但是在提高光刻机的精度上，也就是掌握高端光刻机的道路上遇到了难题。
那么为什么高精度的光刻机这么难研发呢？主要存在三个方面的难题。
第一是光源问题，因为光刻机的原理是用紫外光刻画在晶体上，这就对紫外光的光源产生了极其高的要求。
目前世界上最先进的光刻机可以研制出直径3纳米的芯片，而我们的头发丝大概是50微米，也就意味着这种光刻机可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条。只是听这个描述就知道了这对光源的要求有多高，稍有偏差就差之千里。
第二个要求就是反射镜，它也是光刻机制作中不可或缺的重要一环，可以让电路直接等比例地缩小呈现在晶体上。
有人或许会有疑问，不就是一块小镜子吗？这有什么难做的？其实不然，因为要配合光源进行工作，反射镜的精密程度依然是我们难以想象的，其制作难度也是非常大的。
第三个要求是光刻机工作台的精度，它直接控制了芯片在生产中的纹路刻蚀，工作台的精度越高，相应的芯片精度也就越高。这种精度是必须控制在纳米级别的，一般的技术水平根本达不到这个要求。
以上三个也只是光刻机制作的技术难题，更不用说一些其他的因素了。比如西方国家的垄断，刻意的打击压制等，使得技术无法在国际之间交流，这些高端技术只在它们那些发达的西方国家中流传。
这对于中国这样新兴的发展中国家来说无疑增大了研制的难度。
我国光刻机研制面临的挑战和发展前景
虽然光刻机制造技术之难、西方对该技术垄断之严厉，但我们国家还是取得了一连串的进步。我们光刻机精度已经达到了28纳米的级别，对于一个起步晚的发展中国家来说，这已经是长足的进步了。
但我们也必须正视差距的存在，现在世界上最为发达的高端光刻机精度是3纳米，这领先了我们一大截。
而且在不断提高光刻机精度的道路上我们依旧有着不少的挑战，因为起步晚，我们制造光刻机的光刻胶几乎全部依赖进口。其他制造光刻机的原材料的自给率也是比较低，这些都大大地遏制了我们研发进程。
但也不必因为这样就对我国光刻机的发展前景感到悲观，60年前我们在研发原子弹时，不也是这么一个情况吗？甚至那时候的情况更为糟糕，但是勤劳勇敢的中国人民还是在那么艰苦的环境之下，把原子弹给研发了出来。
如今我们的各项条件都得到了质的发展，科技水平相比那时提高了一大截，人才也不断涌现，相信我们没有理由被一块小小的芯片难住。
总结
有时候不得不感到惊讶，一块小小的芯片，竟然能比可以毁灭人类的核武器都难以制造。不过在了解了光刻机的工作原理和研制难度之后，出现这样的现象也是可以想象的。
但是这不意味着我们不能改变现状，不能打破它们的垄断。60年前充满智慧和勇气的中国人就曾给了世界一个奇迹，一个震撼，60年后我们依旧可以做到。雄关漫步真如铁，而今迈步从头越。相信我们中国人一定可以研制出属于自己的高端光刻机。