半导体日本扩大出口管制这些半导体设备商最“受伤”芯片制造

【半导体】日本扩大出口管制这些半导体设备商最“受伤”

事实上,若无美国裹挟,日本难很走“伤敌一千,自损八百”这条路。

美国裹挟下,日本寻求平衡

美国于去年10月对向中国出口的芯片制造工具实施全面限制,然而,美国需要此类设备的其他主要供应商国家日本和荷兰加入,才能使这些限制生效。

美国拥有三大芯片设备制造商,包括应用材料、科磊和泛林集团,与日本的东京电子和荷兰ASML一起,在全球半导体行业中占据主导地位。如果不能获得这些公司最好的芯片设备,就不可能建立能够制造最先进芯片的工厂。

于是,白宫继续向盟友施压,要求他们通过限制措施,限制荷兰ASML或日本东京电子等企业的半导体制造设备销售。白宫认为,向中国销售此类先进设备会导致一个问题,即中国有朝一日可能造出无法从美国购买的先进产品。

此外,日本厂商整体上在半导体设备领域拥有着不弱于美国的实力,可以说,日本应该是全球最容易打造出一条先进的“全国产化”半导体产线的国家。这也是美国拼命拉拢日本跟随其限制政策的原因。

美国一直希望日本能同步收紧对华半导体设备出口,但日本一直寻求在两个超级大国之间选择一条中间道路。

如今,日本还是迈出了“艰难”的一步。

内需不足,外部多变,如今自断“前路”

在1980年代,日本的芯片在全球的市场占有率超过50%,但如今却只有10%左右。为何日本芯片制造业辉煌不再?对此,在日本宣布限制芯片设备出口的前一天,3月30日,日本经济产业省的商务情报政策局局长野原谕给出答案。

野原表示原因有3个,第一,日本被美国逼迫签订的《美日半导体协议》,使日本芯片制造商不得不降低产能、减少出口;第二,日本一直坚持传统的生产模式,从设计到制造都是在日本国内完成;第三,也是最重要的一点,是客户的流失。

在兴盛时期,日本芯片制造商的客户大多是日本电机制造商。但当电机制造商的主力产品从电脑转为手机,日本芯片制造商的主力客户变成了海外制造商。但日本的芯片却并没有渗透到海外制造商中,日本国内的电机制造商也因泡沫经济破灭、发展停滞不前。

半导体设备制造商寄国内芯片市场发展的希望渺茫,因此只能把目光转向海外。

联合国国际贸易中心数据显示,2021年日本在全球半导体设备出口305亿美元,对华出口额为120亿美元左右,占向全球出口设备的近40%,位居所有地区之首。美国2021年对华出口68亿美元,日本是其出口额的近两倍。相比之下,只有26%和12.5%的美国和荷兰半导体设备出口流向中国。此外受新冠疫情、地缘政治及全球经济下滑等因素影响,终端设备需求下降,内存需求大幅下滑,导致厂商收紧投资,日本半导体设备的出口额也岌岌可危。

据日本半导体设备协会(SEAJ)最新数据显示,截至2023年2月,日本半导体设备的国内外销售额连续五个月下降。这也是销售额连续第二个月低于3000亿日元(23亿美元)。SEAJ预估日本今年的半导体设备销售额将降至近3.5万亿日元(263.85亿美元),年降幅为5%,为四年来首次下降。

而日本决定在7月份开始对23种芯片制造设备施加出口限制,必将使这一市场雪上加霜。其中,最“受伤”的当属日本半导体设备供应商。

将受限的日本半导体设备公司有哪些?

日本最新措施的重点是先进半导体制造设备,制造芯片所需的极紫外(EUV)设备也被列入其中。这23项设备包括:3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻/曝光设备、3项刻蚀设备以及1项测试设备。

据外媒报道称,限制出口可能会影响到尼康、东京电子等十几家日本企业。在日本宣布将芯片制造设备加入出口管制清单后,尼康和东京电子的股价应声而跌,下跌了2%。

东京电子(TokyoElectronLtd.)

东京电子是全球第三大以及日本最大的半导体制造设备供应商,控制着近90%的芯片涂层显影和开发设备市场。中国是东京电子的最大客户。截至2022年3月,中国占该公司芯片制造设备年销售额的26%。其副总裁HiroshiKawamoto表示:“如果美国设备不能送到我们的中国客户手中,他们将无法生产,因此我们的设备也无法到达那里。”

尼康(Nikon)

同样被认为将受监管的“ArF浸入式光刻设备”的制造商尼康称,“2022年销售的每五款产品中至少有一款面向中国”。

尼康成立于1917年,1980年开始半导体光刻设备研究,1986年推出第一款FPD光刻设备,如今业务线覆盖范围广泛。2004年之前,尼康占据光刻机市场超过50%的市场份额,被誉为“设备业界王者”。但后来再关键技术路线上选择错误,使得尼康从光刻机王者宝座跌落。

尼康曾表示,“过去,我们ArF光刻系统80%以上的销售额都集中在一个核心北美客户。”本财年,尼康一半以上的销售额预计将流向其“北美核心客户”以外的公司。通过将客户群分散到日本和亚洲其他地区,尼康希望在下一财年及以后为其精密设备业务建立稳定的基础。而“亚洲其他地区”几乎完全是指中国。

尼康在截至2022年3月的财年中约占中国总销售额的28%,约40%的销售额来自其光刻机业务。

尼康发言人表示,日本此次推出限制措施,尼康目前提供两种类型的浸入式光刻系统的销售可能会受到影响。

爱德万测试(Advantest)

爱德万测试(Advantest)是一家日本芯片测试设备制造商,成立于1954年,为全球的半导体产业提供自动化测试设备和一体化的测试技术解决方案,与总部位于美国的泰瑞达(Teradyne)展开竞争。

在全球半导体测试设备市场,主要被美国泰瑞达和日本爱德万所占据。在SOC测试领域,泰瑞达具有较高的优势,而爱德万在存储器测试领域处于领军地位,但其SOC测试设备市场份额逐渐稳步上升。

中国也是爱德万的最大市场,2021年仅来自中国的订单金额就达1890亿日元,占该公司总销售额的27%。

爱德万测试的一位高管1月份表示,“我们认为美国对中国的出口限制直接阻止我们销售我们的测试仪的风险很小。然而,我们可能会受到间接影响,因为这些限制会停止供应其他公司的生产设备,促使我们的客户重新审视他们的商业计划。”

日立高新(HitachiHigh-Tech)

日本日立高新成立于1947年,是全球领先的设备厂商。主要产品包括半导体设备、电子显微镜、FPD设备及医疗分析设备等。

在半导体设备领域,主要生产干蚀刻系统和CD-SEMI和缺陷检查系统。这些设备广泛应用于大规模集成电路、功率器件和声表面波滤波器、CMOS图像传感器、微机电系统和其他(硬盘和平板显示器)。

迪恩士(SCREEN)

迪恩士创立于1943年,是世界上唯一生产线图像制版器材、电子原件制造设备的综合制造厂商,也是是全球第六大的半导体设备厂商。

迪恩士1975年开发出晶圆刻蚀机,正式开启半导体设备制造之路。随后四十多年里公司专注于半导体制造设备,在清洗设备领域公司具有强大的竞争优势。迪恩士的业务有半导体制造设备(SPE)、PCB设备(PE)、液晶制造设备(FT)、图像情报处理机器(GA)以及ICT解决方案等。

值得一提的是,在晶圆清洗领域,2009年迪恩士在单晶圆清洗系统中获得了全球60%以上的份额,在涂布机/显影机,湿法蚀刻机和抗蚀剂剥离剂的LCD制造设备市场上赢得了2008年全球最大的份额。此迪恩士在图案检查和液晶制造设备行业也拥有龙头地位。

迪斯科(DiscoCorporation)

迪斯科创立于1937年,总部位于日本东京,是全球领先的晶圆切割设备厂商。根据数据显示,在2021年的半导体晶圆切割设备,DISCO占据了超过70%的市场份额。

KokusaiElectric

KOKUSA电气的前身是日立国际电气,于2017年底作为非核心业务出售给了私募股权基金KohlbergKravisRoberts(KKR),从而离开了日立集团。

制造半导体的最重要阶段是通过沉积和热处理形成薄膜。KOKUSAI电气公司拥有一种新颖的下一代沉积技术——平衡控制沉积(BCD),BCD技术为先进的小型几何设备提供更低的温度处理和更严格的过程控制,同时保持非常高的生产力。KOKUSAI电气公司生产的半导体制造设备利用了那些接近物理极限的世界一流的薄膜形成技术,例如10纳米微制造技术,为快速发展的晶圆厂设备市场提供服务。

Lasertec

Lasertec是世界上唯一一家使用极紫外掩模光刻技术的半导体检测设备制造商。Lasertec专注于设计和开发,将生产的大部分委托给外部,其“轻工厂”(fab-light)的优势扩大了收益。这家芯片测量制造商在中国的销售额占其全球销售额的不到10%。Lasertec表示,由于该公司在中国的销量较小,出口限制将对该公司产生“有限、微不足道的影响”。

佳能(Canon)

佳能成立于1937年,原名为精机光学工业株式会社,1984年,佳能推出首款步进式光刻机(stepper),2011年,佳能推出第一款用于后道的步进式光刻机FPA-5510iV,正式进入先进封装领域的光刻市场。

佳能的FEOL(生产线前道工序)产品阵容强大,包括深紫外光(DUV)扫描式光刻机FPA-6300ES6a和I线步进式光刻机FPA-5550iZ2,得益于其高生产率和低成本的优势而受到存储器制造厂商的青睐。

佳能的关键优势之一是产品覆盖半导体前道市场和半导体后道市场,产品组合广泛。加上在前道技术开发过程中积累了宝贵的经验,在开发后道产品时可借鉴早期平台研发的经验,并利用经过验证的专有光学制造技术,不断改进光刻系统的性能。

大福集团(Daifuku)

大福集团创于1937年,最早生产气锤、锻压加工机,随着日本经济的复兴与发展,开始涉足物料运输及管理物流。

大福集团的洁净室存储、搬运系统被广泛应用于半导体、液晶等平板显示器制造行业,在许多世界著名企业均有销售。大福集团曾是2018年全球前十五大半导体设备厂商。

只是日本的第一步?

而不管日本推出何种限制措施,其对全球产供链稳定的破坏,终将会损人害己,对日本半导体设备商也将造成巨大损失。

THE END
1.OLEDQLEDMicroLED平板显示设备行业深度报告:OLED渐成主流...1.五大平板显示技术所需的FPD设备存在异同。在TFT-LCD、OLED、QD-LCD、QLED和Micro LED中,各种显示技术的工艺差别主要在Cell制程,而Array制程和模组制程基本类似,因此Array制程的专业设备基本通用,而Cell/Module制程的专用设备因具体显示技术而异。 2.OLED显示技术已成熟,量子点和Micro LED产业化仍需时日。当前主要应...http://www.360doc.com/content/19/0311/09/62681190_820669842.shtml
2.国内光刻胶产业:百舸争流,剑指高端好文精选202201光刻胶(Photoresist,简称PR),是一种在光源照射下产生溶解度变化的耐刻蚀薄膜材料,广泛应用于微纳器件的光刻工艺中。光刻技术广泛应用于印刷电路板(Printed Circuit Board,简称PCB)、显示面板(Flat Panel Display,简称FPD)、集成电路(Integrated Circuit,简称IC)等领域的光刻工艺中。光刻工艺通常处于生产制造流程的前端部...http://m.mindcherish.com/article/content?id=5570281
3.尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机,预计2026财年发售据了解,尼康的这款光刻机将半导体光刻机的高分辨率技术与显示产业所用的FPD曝光设备的多透镜组技术相融合,实现了在无需使用掩膜的情况下,利用空间光调制器(SLM)生成所设计的电路图案。从光源发出的光经过SLM反射后,通过透镜光学组,最终在基板上成像。这一创新技术不仅提高了光刻机的生产效率,还大幅削减了后端工艺...https://m.eechina.com/view.php?id=875372
4.尼康Nikon公司[42] 因此,截至2020年,精密设备业务的销售额高于尼康传统上的支柱成像业务,而公司的利润则由FPD曝光设备支撑,该设备在4K LCD和有机显示器的生产中表现良好EL 电视. 43],并且还积极投资于医疗保健领域(显微镜、细胞合同制造等)等增长领域。 相机 以尼康F系列徕卡画幅单反相机、尼康D系列数码单反相机、COOLPIX系列...http://www.newkon.cn/Casus/Content/157.html
1.摄影技术基础知识揭秘镜头摄影技术基础知识精要在摄影的世界里,光线是最基本也是最重要的元素。它不仅决定了照片的整体氛围,还直接影响到图像的质量和感受。如果你对如何运用光线进行拍摄感到好奇,不妨继续阅读,让我们一起探索一些摄影技术基础知识。 1. 调整曝光 曝光是指相机内部传感器接收到的光线量。正确地调整曝光可以让你的照片看起来更加自然、生动。你可以通...https://www.ga5s5kc3m.cn/she-ying-ji-qiao/488996.html
2.初学者如何选择曝光模式初学者选择曝光模式技巧分享曝光的物理含意是指光线使感光层面(涂了感光化学物)产生潜影。曝光后的工序是化学显影,显影使潜影显现并固化。照相机和有快门的设备:通过快门的开启,不同的明暗光线使人,景,物的影像在银盐胶片上曝光生成潜影。下面,我们就来看看如何让曝光更有创意。 https://www.pcxun.com/n/244452.html
3.摄影方法摄影装置及程序专利专利摘要:本发明的摄影方法包括:摄影工序,通过经由摄影透镜进行拍摄来生成图像数据;检测工序,从图像数据中检测第1被摄体和第2被摄体;第1聚焦工序,聚焦到第1被摄体;及调整工序,根据第2被摄体的状态,进行摄影工序中的摄影调整。 专利权项:1.一种摄影方法,其包括:摄影工序,通过经由摄影透镜进行拍摄来生成图像数据...https://hebi.lotut.com/patent/6746a4a703f9cd1f4c8b21a4.html
4.尼康技术/设计FPD曝光装置平板显示器(FPD)每年都在往更薄更大的趋势发展,让我们能更轻松地享受更高清晰度图像。尼康的FPD曝光装置在这一发展过程中做出了重要贡献。 平板显示器一般分为两大类,液晶显示器(LCD)和有机电激发光显示器(OLED)。无论哪种,每个像素都由红绿蓝三色组成。在每种颜色上,都有一个起着开关功能的薄膜晶体管(TFT...https://www.cn.nikon.com/technology/product/fpd/
5....stepperI7I14S204光刻机光刻对准与曝光介绍光刻工艺流程集成电路的制作工序是一个复杂的过程,其制作工艺过程为硅片制备 一硅片清洗 一气相沉积底膜 一 旋转涂膜 一 软烘 一 对准与曝光一 曝光后烘焙 一显 影一 坚膜烘焙 一 显影检查 一 腐蚀 一 去胶 一切 割一 测试。 大型集成电路制作完成需要好几百道工序,对准和曝光是整个工序最为关键 技术单元,...https://www.junr.com.cn/semiconductor%20news/675.html
6.曝光设备的调平系统调平方法对焦系统及对焦方法与流程本发明涉及太阳能电池曝光领域,尤其涉及一种曝光设备的调平系统、调平方法、对焦系统及对焦方法。 背景技术: 1、光刻技术是作为微细加工领域的重要手段之一,随着物理、化学、生命科学、材料等领域的快速发展,器件逐步朝着的微型化、轻量化、集成化的方向迅速发展,这对光刻系统的光刻精度提出了更高的要求。而对准的...https://www.xjishu.com/zhuanli/20/202410571308.html
7.全球光刻机龙头是怎样炼成的尼康最先进的光刻机2001-2010:双工作台技术提升效率,先发浸没式系统打败尼康、佳能 Twinscan双工件台系统将生产效率提升35%,精度提升10%。在2000年前的光刻设备只有一个工作台,晶圆片的对准与蚀刻流程都在上面完成。ASML公司在2001年推出的Twinscan双工件台系统,在对一块晶圆曝光的同时测量对准另外一块晶圆,从而大大提升了系统的生产效率...https://blog.csdn.net/qq_40310273/article/details/114285705
8.专访牧野晶:佳能光刻机FPD曝光机OLED蒸镀机的现状与市场战略...对于FPD曝光机来讲,更看重玻璃的尺寸,各类显示器件制造背板技术其实是类似的,这意味着一台曝光设备既可以覆盖液晶板又可以覆盖OLED板的生产制造,区别在于客户的工艺和生产场景上LCD和OLED所使用的技术各有不同。此外,针对玻璃基板的大小,佳能根据不同的产品种类大致区分两种产品平台去对应市场上的玻璃基板,比如六代线...https://www.eefocus.com/article/529730.html
9.OLED各段制程设备及企业汇总TFT-LCD与OLED在工艺流程上最大的差异在于Cell制程。TFT-LCD的Cell制程设备涉及PI涂覆/固化设备、定向摩擦设备、灌注液晶/封口设备、基板对位压合机等一系列传统液晶面板制作设备,OLED由于采用有机材料制作自发光的RGB画素,在工艺流程上有所改进,引入了蒸镀设备、喷墨打印设备以及封装机等设备。 http://www.chinafpd.net/news/35444_4.html
10.半导体设备厂最新排名,美日绝对垄断在FPD曝光设备领域,尼康和佳能两家日本厂商占据主要地位,两家也在不断抢食FPD设备市场。据了解,佳能在生产电视机显示屏方向的大型面板的曝光设备方面实力雄厚,而尼康的曝光设备则在用于智能手机显示屏的中小型面板方面更具有优势。佳能在2019年半导体设备厂商销售额排名跟去年一样,都排在第15,不过其销售额远低于尼康,仅...http://m.xincailiao.com/share/news.aspx?id=575227
11.20242028年中国光刻机行业投资规划及前景预测报告锐观网图表:尼康2016-2020年研发支出情况 图表:尼康平板显示器的制造工艺以及FPD曝光装置 图表:半导体产业历史上重要支持政策 图表:《国家集成电路产业发展推进纲要(2014)》规划目标 图表:集成电路政策规划目标变化历程 图表:集成电路产业政策扶持重点变化历程 图表:《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》旧财...https://www.shangyexinzhi.com/article/11392422.html
12.佳能光刻机现在是什么水平?探访进博会上的光学大厂显示面板的上游制造设备市场和半导体制造还是不大一样的,比如说佳能虽然和尼康对半切分FPD曝光机市场,但两家的技术路线也大相径庭。牧野晶说佳能的FPD曝光设备目前用的是MPA(Mirror Projection)方式,“是反射式的等倍投影”;技术特点在于“不会有拼接曝光产生的显像不良影响,能够实现大规模生产效率”;“一次性曝光的高...https://www.esmchina.com/news/9537.html
13.上海尼康精机有限公司:以半导体生产设备,精密机械及其相关零部件...上海尼康精机有限公司(NikonPrecisionShanghaiCo.,Ltd)是由尼康集株式会社全额出资的子公司,成立于2002年9月,主要从事以半导体(IC)及液晶显示面板(FPD)的曝光装置及相关零部件为主的售后服务及技术支持业务。作为业内Zui的设备供应商之一,尼康精机承袭了其在照相机领域的出色表现,以精良的品质和完善的售后服务享誉...https://shanghai0612966.11467.com/
14.EUV光刻,日本强在哪儿?日本TOPPAN陆续将高端技术转移到上海厂,该厂在2015年导入90纳米的光掩膜技术设备,并在2018年开始生产65/55纳米技术,之后在2018年进入逻辑制程28/14纳米,以及DRAM的1X/1Y制程的光掩膜生产。 除了投入高端技术工艺,日本TOPPAN也在数年前就投入EUV光刻机用的光掩膜,通过高能量、波长短的光源,将电路图案转印到晶圆,EU...https://www.huxiu.com/article/2476568.html
15.壹周要闻大半导体产业供应链动态#140期新闻中心尼康正在研发的后端数字光刻机融合了半导体光刻机的高分辨率技术和显示产业所用FPD曝光设备的多透镜组技术。该设备的曝光过程无需使用掩膜,而是利用SLM(空间光调制器)来生成所设计的电路图案,从光源发出的光经SLM反射后通过透镜光学组,最终在基板上成像。尼康宣称其新设备相较于传统的有掩膜工艺可同时削减后端工艺的成...https://www.hmglog.com/show_1117.aspx
16.“芯机遇”系列:OLED产业链国产化进程加速,全尺寸应用空间广阔...按照OLED工艺制程,阵列工程段及有机蒸镀工程段制程设备工艺更复杂。据赛迪智库统计,2018年新型显示产业曝光机日本佳能、日本尼康市占率达90%,薄膜沉积设备日本爱发科、日本佳能Anelva、美国应用材料市占率达70%。 以检测设备为例,国内OLED设备厂商主要集中在模组工程段。阵列工程段检测对象为薄膜晶体管,光学检测的技术...https://pre.gelonghui.com/p/680671
17.半导体设备厂商TOP12强以及大陆TOP10强盘点ASMP拥有大约2%的大部分所有权,是晶圆组装和封装以及表面贴装技术的半导体工艺设备的供应商。 12、Nikon(尼康) 尼康成立于1917年,最早通过相机和光学技术发家,1980年开始半导体光刻设备研究,1986年推出款FPD光刻设备,如今业务线覆盖范围广泛。尼康既是半导体和面板光刻设备制造商,同时还生产护目镜,眼科检查设备,双筒望远...https://www.dzsc.com/news/2018-10-29/201495.html