公司实际控制人为宗坚、赵静艳，目前宗坚、赵静艳通过FavoredTech（香港）合计持有公司62.16%的股份，且宗坚系公司的创始人，一直担任公司董事长、总经理。宁波菲纳、宁波纳泰均为员工持股平台，合计持股比例达到5.53%，深度绑定公司核心员工。
公司制备纳米薄膜过程中采用的主要工艺原理为等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和等离子体聚合，其中PECVD是利用微波或射频等能量使含有薄膜成分元素的气体电离，产生高化学活性的等离子体，在基材上沉积出具有所需功能的薄膜。沉积过程在纳米镀膜设备的反应腔室系统中完成，具体过程如下：等离子体释放能量作用于化学材料气体从而形成特定的分子官能团，同时作用于待镀物件表面产生自由基，官能团和待镀物件表面的自由基点不断结合，形成厚度可达纳米级的薄膜。
纳米薄膜产品主要包含单层阻液纳米薄膜、双层防液防气纳米薄膜和多层耐腐蚀纳米薄膜。公司以自主研发的行星式转架真空纳米镀膜设备为平台，依托特定的镀膜材料配方及工艺，为客户产品制备能够实现特定需求的纳米薄膜。从下游应用来看，单层阻液纳米薄膜通常用以实现手机、耳机等整机表面的防水功能；双层防液防气纳米薄膜主要用于解决手机、音响等产品的主板及电路板、部件的防水问题；多层耐腐蚀纳米薄膜用以以解决耳机、电子阅读器等产品主板及电路板、部件的耐汗液及其他液体腐蚀问题。
股份支付费用较高拉低净利润水平，未来盈利修复弹性可期。近两年随着公司营收规模的快速提升，费用率整体呈下行趋势，但考虑到股份支付费用的影响，导致了表观水平较高。2019-2021年，公司营业费用率分别为52.0%、48.4%、41.5%，剔除股份支付费用后，公司的营业费用率分别为46.1%、36.7%、27.2%，呈现出快速下降的趋势。2021年公司归母净利润为3,932万元，归母净利率约为9.6%。
从结构防护到涂层防护，先进技术逐渐替代
可扩展性良好，PECVD镀膜市场容量有望持续提升
制备纳米膜材料的方法主要包括液相法和气相法，液相法将含有多种成膜组分的液体化学材料，采用刷涂、喷涂等工艺将液体材料涂覆于待镀物件表面，再经室温固化、加温固化、紫外光固化等步骤形成一层高分子防护薄膜；气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在表面沉积具有特殊性能的薄膜。与液相法相比，气相法形成的薄膜厚度和均匀度均可以得到更好的控制，且不需要对基材进行浸泡。气相法按照沉积过程又可以分为物理气相沉积技术（PVD）和化学气相沉积技术（CVD），PVD是将原材料汽化成气态原子、分子或部分电离成离子，在基材表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术，镀膜过程中没有化学反应，不产生新的物质，形成纳米薄膜只是材料形态的改变，但所需的反应温度一般较高，且难以对基材实现全方位覆盖，一般适用于平面基材的膜层制备；CVD是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基材，借助气相作用或基材表面上的化学反应，在基材上制出金属或化合物薄膜的方法，该过程中有化学反应，多种材料相互反应生成新的纳米材料。相较于PVD，CVD绕镀性能更佳，能够覆盖更复杂、更精细的表面结构，更适合为精密部件制备纳米薄膜。
化学气相沉积根据反应条件、所用材料的不同，主要可分为常压化学气相沉积技术（APCVD）、低压化学气相沉积技术（LPCVD）、金属有机化学气相沉积技术（MOCVD）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和原子层沉积技术（ALD）五类。公司所采用的PECVD技术是利用微波或射频等能量使含有薄膜成分元素的气体电离，产生高化学活性的等离子体，在基材上沉积出具有所需功能的薄膜。PECVD技术的优势在于能够在相对较低的反应温度下形成高致密度、高性能的薄膜，其操作方法灵活，工艺重复性好，尤其是可以在不同复杂形状的基板上沉积各种薄膜。
PECVD和等离子体聚合技术优势明显，下游可应用领域广泛。综合来看，PECVD技术配合等离子体聚合技术制备纳米薄膜的工艺路线具有很强的应用扩展性，核心原因在于膜层功能的多样性结合可镀基材的广泛性，能够实现多种特定功能的需求。除电子消费品以外，理论上所有有着防水防腐蚀需求的电子产品整机、模组及其印制电路板均可能通过纳米薄膜技术进行防护，基于不同的功能，还可以实现在光学材料、医用材料、电子材料等方面的应用，纳米薄膜材料在持续扩展新的可应用的行业领域。
公司纳米薄膜制备技术是高分子材料技术、低温等离子体技术、纳米气相沉积技术和自动控制技术的融合，具有较高的技术壁垒，突破了国外技术垄断，并形成了具有自主知识产权的系列技术，良好的工艺性能也取得了国内外电子行业巨头的认可。在消费电子领域，公司的技术已经被广泛应用在龙头厂商的手机、耳机、电子阅读器等产品，同时公司可以针对不同场景的需求选择恰当的化学材料予以加工，进一步拓展在医疗器械、汽车电子、光学材料等领域的应用。
全流程自主研发，打破国外技术垄断
公司采用自主研发设备，材料配方及制备工艺均自主创新，实现了全流程一体化。设备方面，目前公司已自主设计并生产了六种型号的纳米镀膜设备，自研设备能够更好的实现镀膜过程中对等离子场的精确控制，在生产效率和产品质量上具备技术优势，同时公司也会根据下游应用场景进一步拓展设备类型，例如大腔体设备和DLC纳米薄膜制备设备；材料配方方面，公司针对不同场景需求均可选择恰当的化学材料予以加工，能够灵活拓展纳米薄膜的应用范围，例如目前在研的DLC纳米薄膜具备高硬度、高电阻率以及良好的光学性能，可用于折叠手机屏幕、光学器件的耐磨性强化；定制化服务方面，公司需要结合客户待镀物件基材表面、功能需求等因素进行定制化设计，从而能够进一步提高生产效率和镀膜质量。在全流程自主研发下，公司能够同时兼顾镀膜质量与效率。