据东兴证券研报，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润式氟化氩）、EUV（极紫外）五大类。
此次入选推广目录的氟化氩光刻机，应属于干式ArF光刻机。在具体指标上，与ASML旗下TWINSCANNXT：1470以及TWINSCANXT：1460K类似。
国产光刻机实力几何？
据工信微报发文，此次指导目录是为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。
具体来看，氟化氪光刻机晶圆直径为300mm（12英寸）；照明波长为248mm；分辨率≤110nm；套刻≤25nm。
相比之下，阿斯麦（ASML）的氟化氪光刻机型号有TWINSCANNXT：870、TWINSCANXT：860N和TWINSCANXT：860M。这三个型号，波长均为248mm；分辨率≤110nm。
而指导目录中更为先进的氟化氩光刻机，其照明波长为193mm，分辨率≤65nm；套刻≤8nm。
这一数据与ASML旗下TWINSCANXT：1460K最为接近。该型号照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此外，该系统可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。
相比之下，ASML浸润式光刻机TWINSCANNXT1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报，该型号可实现2.5nm的套刻精度（MMO）。
据东海证券援引ASML官网数据，2023年各类光刻机均价为EUV（17386万欧元）、ArFi（7196万欧元）、ArFdry（2742万欧元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万欧元）。
东海证券认为，目前光刻机国产化率仅为2.5%，整机技术与海外差距较大，短期5—10年内一方面重点发展90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键，一方面重点布局国内半导体零组件发展。
光刻机产业链亟须发展
9月18日，东方财富概念板块中，光刻机（胶）板块排名靠前，板块整体涨幅达2.47%。其中，同飞股份（300990.SZ，股价28.43元，市值47.9亿元）、波长光电（301421.SZ，股价35.88元，市值41.52亿元）均收获“20厘米”涨停；新莱应材（300260.SZ，股价18.13元，市值73.94亿元）上涨12.40%。此外，张江高科（600895.SH，股价19.17元，市值296.88亿元）、海立股份（600619.SH，股价5.93元，市值63.65亿元）、凯美特气（002549.SZ，股价5.39元，市值37.48亿元）等也涨停。
东兴证券称，国内企业中，上海微电子是目前中国第一家也是唯一家光刻机巨头，出货量已占国内市场份额超过80%，产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域，其已具备90nm及以下的芯片制造能力。
光刻机零部件方面，同飞股份曾在2023年中报表示，其液体恒温设备在半导体制造设备领域，主要应用于光刻机、刻蚀机、研磨抛光机等关键设备的温度控制。
不过，根据东兴证券研报，光刻机核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶显影等。
光源系统方面，据华金证券，针对准激光光源，科益虹源主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等；福晶科技（002222.SZ，股价22.05元，市值103.69亿元）研发KBBF晶体。
另据东兴证券，波长光电为国内激光光学元件的主要供应商，目前，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力，公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。
波长光电也曾于2023年9月15日披露投资者活动记录表称，公司在半导体领域主要涉及两个领域：一个是生产领域，即曝光机、光刻，公司可提供大口径光学镜头用于检测，做折反、投射，还可以提供平行光源系统；另一个是检测领域，公司可提供检测设备上的光学元件、组件，也可为客户定制开发、装调子系统。
物镜系统方面，东兴证券称，茂莱光学（688502.SH，股价77.99元，市值41.18亿元）光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已实现产业化。