光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度
时光刻机中的一项核心技术，应用于对半导体衬底进行成像的光刻技术，主要用来确定位置。在目前高端光刻机晶圆台的亚纳米级定位需求中，光栅干涉测量具有较大优势，测量分辨率可达17pm，长期测量稳定性可达0.22nm，采用先进的二维平面光栅可以实现空间六自由度测量，是14nm及以下光刻工艺制程的重要技术路线。
因为x射线具有穿透力，而穿透力产生的折射会浪费大量的能量，致使光刻机效率低下，甚至无法工作，所以不用x射线。
研讨会现场（主办方供图）8月23日，集成电路关键技术研讨会在北京举办。与会专家围绕着我国集成电路产业链条中的光刻机、软硬件质量保障等集成电路关键技术问题进行了研讨交流，以促进国内集成电路行业发展。“未来十年，集成电路关键技术迎来黄金发展期，机遇和挑战并存。”此次研讨会主持人、中国科学院自动化研究所高
2月15日，中国工程院信息与电子工程学部、中国信息与电子工程科技发展战略研究中心在京发布“中国电子信息工程科技发展十三大挑战（2022）”。发布会由中国工程院院士、信息与电子工程学部主任卢锡城主持。中国工程院党组成员、副院长陈左宁院士表示，中国工程院作为中国工程科学技术界最高荣誉性、咨询性学
中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队，近日自主研制成功紫外纳米压印光刻机。该机器将新型纳米压印高分辨力光刻技术与紫外光刻技术有机结合，成本仅为国外同类设备的1/3，并在同一加工平台上实现了微米到纳米级的跨尺度图形加工，使我国微纳实用制造水平迈上新的台阶。光刻机是实现微纳图形加工的专用高
28纳米光刻机作为先进半导体芯片制造中的重要设备之一，其本身的生产工艺无法支持5纳米的芯片生产。但是，通过使用一系列先进的制造技术和调整设备参数等手段，可以将28纳米光刻机用于5纳米芯片生产。主要方法包括以下几个方面：1.使用多重曝光技术：将同一影像进行多次叠加曝光，在不同的位置形成复杂图形，在提
“正是有了无数个一丝不苟的攻关，才促成了我国首台IC光刻机的问世。”5月10日，华中科技大学（以下简称华科大）“科学家精神进校园”系列活动新闻发布会上，中国工程院院士、华科大教授陈学东在回答《中国科学报》提问时表示，科学研究往往没有捷径可走，重大科学技术突破靠的是对“敢为人先、勇攀高峰、一丝不苟、精
中国芯片落后么？肯定是落后，而且是全方位的落后。从设计能力到制造能力，中国目前都差一大截，尤其是制造能力，这个是事实。就像我们觉得华为中兴很厉害，但是他们依赖的很多重要技术就是被包在芯片封装里面的那些外国玩意。现代这个世界，中国不可能把所有重要领域的科技能掌握到，你再厉害也有受制于人的地方。你不惜代
极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，预计将于2019年初交货。功能光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备
11月29日，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。光刻机相当于一台投影仪，将精细的线条图案投射于感光平板，光就是一把雕刻刀。但线条精细程度有极限——不能低于光波长的一半。“光太胖，门缝太窄，
近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Maskaligner），光刻分辨力达到500nm。Maskaligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中，光刻所采用的波段是决定
据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标将当前产能提高一倍，总投资额超过500亿日元（约3.45亿美元），工厂计划在2023年动工，2025年开始运营。光刻是半导体电路形成不可或缺的核心技术
我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量。而我国作为全球最大的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币。光刻机是芯片制造过程中最重要的一部分，就是我们把想要设计的芯片，用光学技术刻在晶圆上，用光学技术把各种各样
1、制冷压缩机内无敲击声，压缩机正常运转，膨胀阀开度调节合适，运转中只有压缩机吸、排气声，不产生敲击或其它不正常声响。2、压缩机各摩擦部位温度正常，无激热现象。压缩机各摩擦部位、轴承与轴颈接触良好，润滑正常，不产生超过环境温度。3、曲轴箱油面处在正常位置，一般压缩机曲轴箱正常油面应在视油镜
光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长。如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形。就像你不能用拖把（书写痕迹粗大）在田字格本上写毛笔字（笔划细小）。现在的芯片集成度越来越高，最高端的芯片工艺已经到了2nm级别。而可见光波长在780nm（
——访屹尧科技&衡昇质谱董事长倪晨杰、衡昇质谱总经理祝敏捷和清华大学分析测试中心邢志教授近日，屹尧科技与衡昇质谱联合举办了一场以“强悍性能、智能化、自动化、智慧实验室”为关键词的新品发布会，宣布推出两款突破性的新品——P3超能微波机器人和iQuad2300系列ICP-MS质谱仪。同时，衡昇
3月12日至14日，中国科学院合肥物质科学研究院安徽光学精密机械研究所承担的课题“双腔同步全固化激光电源及输出能量稳定系统研究”通过了国家科技重大专项实施管理办公室的验收。该课题成功为MOPA结构的准分子激光器提供低抖动全固化的高脉冲快放电电源，并实现了通过反馈控制系统实现激光输出能量稳定。该课
分析测试百科网讯2017年8月11日，第四届中国分析仪器学术年会分论坛“国产仪器质量发展服务论坛”举办。该论坛由北京中仪中国仪器仪表学会分析仪器分会雄、中国仪器仪表学会分析仪器分会电化学分析专业委员会、长三角科学仪器产业技术创新战略联盟主办，北京中仪雄鹰国际会展有限公司、浙江清华长三角研究院、