一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
大家也许还不是非常的清楚，刻录机的种类有非常的多，其中的技术原理也不尽相同，下面就由我来给大家简单介绍一下有关接触式光刻机的使用原理及性能指标。接触式光刻机的使用原理：其实在我国对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。我
“正是有了无数个一丝不苟的攻关，才促成了我国首台IC光刻机的问世。”5月10日，华中科技大学（以下简称华科大）“科学家精神进校园”系列活动新闻发布会上，中国工程院院士、华科大教授陈学东在回答《中国科学报》提问时表示，科学研究往往没有捷径可走，重大科学技术突破靠的是对“敢为人先、勇攀高峰、一丝不苟、精
记者日前从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队已自主研制出一种新型紫外纳米压印光刻机，其成本仅为国外同类设备1/3，将有力推进我国芯片加工等微纳级结构器件制造水平迈上新的台阶。光刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，这套设备采用新型纳米对准
半导体产业可以说是一个国家工业的战略高地，而光刻机又是半导体产业的基础核心，所以美国、荷兰、日本等国均对光刻机的出口进行了严格限制，要想不被“卡脖子”，只能走自主研发、自主可控的道路，对此本文将着重探讨三个方面的问题，一是光刻机产业的现状？二是当前国产光刻机技术究竟发展到了什么程度？三是国产光刻
据彭博社20日报道，荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）周三向投资者保证，美国限制中国获取尖端半导体技术的最新出口管制措施，对该公司的影响“相当有限”。ASML的言论让市场感到出乎意料，一直以来，受美国政府对华贸易打压影响，芯片设备行业蒙受损失，但ASML认为，公司未来销售额会高于市场预期。阿斯麦
近日，清华大学发布双面对准光刻机采购项目，详情如下：项目编号：清设招第2022114号（0873-2201HW3L0236）项目名称：清华大学企业信息双面对准光刻机采购项目预算金额：800.0000000万元（人民币）采购需求：1.本次招标共1包：包号名称数量预算金额（人民币万元）是否接受进口产品
193nm光刻机是目前半导体产业的核心装备。为实现大的数值孔径，光刻机镜头通常包含大量接近于半球形状的凸球面和凹球面，这些球面导致同一镜面上光线入射角度范围高达0°到60°以上。目前通用的热蒸发行星镀膜技术会引起球面上严重的膜厚不均匀；同时在球面上的不同位置，高低折射率材料如LaF3和MgF
深圳电子元器件展，电子仪器仪表展，深圳电子仪器仪表展，电子元器件展，深圳电子设备展，电子设备展，电子元器件展览会，电子仪器展，深圳电子仪器展，电仪器展览会，深圳继电器展，深圳电容器展，深圳连接器展，深圳集成电路展2025中国（深圳）国际半导体与封装设备展览会2025China(Shenzhen)
中国科学院光电技术研究所深紫外镀膜课题组在光刻机镜头镀膜技术上取得一系列进展，提出并实现了数种提高光学薄膜厚度均匀性的办法，克服了大口径大曲面镜头上薄膜厚度均匀性控制的难题。光刻机镜头中包含大量的曲面光学镜头，随着光刻机数值孔径增大，部分光学镜面的口径增大且形状逐步接近于半球，镜面上镀膜后的
研讨会现场（主办方供图）8月23日，集成电路关键技术研讨会在北京举办。与会专家围绕着我国集成电路产业链条中的光刻机、软硬件质量保障等集成电路关键技术问题进行了研讨交流，以促进国内集成电路行业发展。“未来十年，集成电路关键技术迎来黄金发展期，机遇和挑战并存。”此次研讨会主持人、中国科学院自动化研究所高
3月12日至14日，中国科学院合肥物质科学研究院安徽光学精密机械研究所承担的课题“双腔同步全固化激光电源及输出能量稳定系统研究”通过了国家科技重大专项实施管理办公室的验收。该课题成功为MOPA结构的准分子激光器提供低抖动全固化的高脉冲快放电电源，并实现了通过反馈控制系统实现激光输出能量稳定。该课
横坐标是波长，纵坐标是光幅（强度）。关于X光，汞灯光谱中包含有X光，但强度已经很小了，达不到应用水平。其实可以看到，KrF,ArF的强度也不大，所以在早期i线的光刻机上用的是汞灯，而DUV的光刻机用的是准分子激光。实验室中的汞灯一般为线光谱，主要谱线波长为：。
中国芯片落后么？肯定是落后，而且是全方位的落后。从设计能力到制造能力，中国目前都差一大截，尤其是制造能力，这个是事实。就像我们觉得华为中兴很厉害，但是他们依赖的很多重要技术就是被包在芯片封装里面的那些外国玩意。现代这个世界，中国不可能把所有重要领域的科技能掌握到，你再厉害也有受制于人的地方。你不惜代
EUV（极紫外光刻）技术在半导体行业备受瞩目。据ASML公布的2023年第三季度报告，EUV光刻机的预定额从5亿欧元猛增至第四季度的56亿欧元，预计将在2025年前后交付。这一技术由日本工程师木下博夫提出，经过几十年的发展，ASML成为唯一能够量产EUV光刻机的厂商。EUV技术相对传统DUV技术具有
第二个问题，为什么现在的技术节点不再直接反应晶体管的尺寸呢？原因也很简单，因为无法做到这个程度的缩小了。有三个主要原因：首先，原子尺度的计量单位是埃，为0.1nm。10nm的沟道长度，也就只有不到100个硅原子而已。未来晶体管物理模型是这样的：用量子力学的能带论计算电子的分布，但是用经典的电
涂胶显影设备是芯片制程中必不可少的处理设备，利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝光后图形的显影，涂胶显影机的性能不仅对细微曝光处的形成造成直接影响，而且其显影工艺的图形质量和误差
在过去的三个月里，中国半导体制造设备的进口总额突飞猛进，达到634亿人民币，同比增长了惊人的90%。这一数字不仅远超过去年同期，也预示着中国半导体行业在国际竞争环境下的艰难前行。美国针对中国的半导体制造设备出口管制政策是这一现象背后的主要推动力。自去年以来，美国联合日本、韩国和荷兰对中国实施
关于超声扫描显微镜，可以说超声扫描显微镜是一种离线的检测分析设备，可以说超声扫描显微镜拥有自主知识产权，创新是企业发展的必由之路。在国内半导体专用设备领域凭借自身多年的技术积累，不断创新，在多年积淀的技术基础上，四十五所厚积薄发，半导体专用设备领域都有新品推出，SSJ-100超声扫描显微镜就是其中之
集微网消息，ASML首席执行官PeterWennink警告称，过度的管制措施可能导致芯片制造商的成本上升，因为美国要求从日本到荷兰的盟友帮助限制中国获得关键半导体技术的机会。据彭博社报道，荷兰和日本是半导体制造设备主要供应商的所在地，即将加入美国政府领导的遏制向中国出口该技术的努力，ASML对中国
8月6日，半导体Overlay套刻装备提供商——埃瑞微半导体宣布完成Pre-A轮融资，由卓源亚洲、金雨茂物联合投资。据了解，这已是今年来埃瑞微半导体完成的第三轮融资，充分表明了资本市场对于该公司的认可。1月种子轮，由源码资本、险峰长青、卓源亚洲、锡创投、中小企业发展基金投资;3月种子+轮，由金